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專利如何申請對很多領域的人都已經知曉了，今天，小編就和大家分享一下，機械領域的專利我們該如何撰寫及申請呢。機械領域專利是以產品的組成、構造、形狀、位置或連接關系的改進為主的一類專利申請，這類專利也是所有專利申請中占比非常大，也是在一個非常常見的一類專利，需要提醒申請人注意的是，如果申請該專利中需要任意一個結構上的改進點即可進行申請。對于需要申請的機械產品而言，申請人可以同時進行發(fā)明專利、實用新型專利以及申外觀設計專利一起申請，這樣能更全面的保護專利產品。

談到申請專利，技術交底書更是少不了的一個環(huán)節(jié)，機機械類專利交底書提供更為容易些 ，一般包括：

1、機械或裝置的名稱、用途、技術點等

2、現有技術及其不足

 首先介紹一下與本發(fā)明最接近的現有的機構或裝置，說明其主要結構及作用原理，同時指出這種現有技術的結構原理所存在的缺點或不足之處。如果有條件的話，最好可以提供相關的介紹，或已經公開發(fā)表的論文或專利文獻；可以提供現有技術的附圖，結合該附圖說明其結構原理。

3、本專利的目的

  指出本發(fā)明的技術方案對現有技術進行改進的目的，或者說是為了解決現有技術中所存在的什么缺陷。

4、詳細描述本發(fā)明的機構或裝置

  對照提供的附圖，并引用附圖中的標號，詳細說明本發(fā)明的機構或裝置中與發(fā)明目的相關聯的組成部分，說明各組成部分的必要形狀及相互之間的連接關系。

5、本發(fā)明的有益效果

 說明由本發(fā)明的結構所決定的有益效果或優(yōu)點，如：克服了缺點、增加了功能、降低了成本、簡化了結構、易于制造、故障率低、安全可靠、節(jié)能環(huán)保、便于操作等等。

  在可能的情況下，提供相應的技術參數、數據來具體說明有益效果，可同時提供原有技術的參數數據進行對比。

6、附圖與說明

   提供本發(fā)明的機構或裝置的附圖，附圖可以有多幅，要求能夠清楚表達本發(fā)明的結構。附圖可以是工程裝配圖、立體示意圖、剖視圖、局部放大圖、局部剖視圖、零件圖、電路圖等，附圖中應該對其組成部分、結構特征（如孔槽、電子單元等）等要素引出標號，以方便在文字描述部分引用這些標號進行說明。附圖中不需標注尺寸和公差，附圖應盡可能提供電子格式。